용도
초순수용 이온교환수지
삼양사 TRILITE® 초순수용 이온교환수지는 균일계수 1.1 이하, 이온전환율 H⁺ 99.9%, OH⁻ 97.0% 이상의 사양으로 디스플레이(OLED/LCD) 및 반도체 초순수 제조 공정에 최적화되어 있습니다.
주요 특징
관련 산업의 발전에 따라 요구되는 초순수의 순도 및 신뢰성은 더욱 엄격해지고 있습니다.
TRILITE® 초순수용 이온교환수지는 국내외 반도체, 디스플레이(OLED, LCD)등의
초순수 설비에 납품되어 신뢰의 Reference를 보유하고 있으며
안정적인 품질관리 및 적시 납기로 고객사의 경쟁력 제고에 기여하고 있습니다.
TRILITE® 초순수용 이온교환수지는 요구되는 초순수 품질에 따라 URR100, UPR200, UPR300, UPR400 Series로 구분 됩니다.
TRILITE® 초순수용 이온교환수지 특징
- 빠른 유속에도 높은 운전교환용량을 구현할 수 있도록 매우 높은 수준의 균일계수(1.1 이하)를 가지고 있습니다.
- Ion leakage를 최소화하기 위해서 H⁺, OH⁻ 전환율이 매우 높습니다.
- TOC(Total organic carbon) 및 미량 Metal ion leakage의 관리를 엄격하게 하고 있습니다.
초순수 생산 공정
초순수 제조 공정은 원수를 공업용수, 순수, 초순수로 단계적으로 정제하는 공정이며, 전처리 공정(Pre-treatment) → 순수 제조 공정(Make-up system) → 초순수 제조 공정(Polishing system) 순으로 구성됩니다.
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1단계 전처리 공정
- 원수를 취수하여 MMF(Multi-media filter)와 활성탄 필터로 부유물질(SS)과 잔류염소를 제거합니다. -
2단계 순수 제조 공정
- 물에 녹아 있는 이온, 유기물(TOC), 박테리아, 용존산소, 이산화탄소를 본격적으로 제거합니다. -
3단계 초순수 제조 공정
- 마지막 남은 미량 이온과 미립자, 유기물을 다듬는 단계입니다. 요구 등급에 따라 디스플레이(OLED) 등급과 반도체 등급으로 나뉘며, 반도체 등급은 H2O2 제거와 보론 제거 공정이 추가됩니다.
용도별
제품 선택 가이드
| 제품명 | Outlet condition | 용도 |
|---|---|---|
| UPRM100U | Guarantee) Resistivity > 17.0㏁∙cm (in 10min) Actual) Resistivity > 18.0㏁∙cm (in 10min) |
일반 전기전자 grade Final polisher |
| UPRM200U | Resistivity > 18.1㏁∙cm(in 30 min) △TOC < 5 ppb (in 120min) |
태양광, 디스플레이 grade Final polisher |
| UPRM300U | Resistivity > 18.2㏁∙cm(in 30 min) △TOC < 1 ppb (in 180min) |
디스플레이, 반도체 Grade Final polisher |
| UPRM400U | Resistivity > 18.2㏁∙cm(in 30 min) △TOC < 1 ppb (in 180min) Metal impurity (ppm, as Dry Base) Na<1, Fe<1, Zn<0.5, Al<0.5 |
반도체 Grade Final polisher |
| UPHR1 | Resistivity > 18.2㏁∙cm(in 24hr) △TOC < 1 ppb (in 24hr) |
반도체 grade 과산화수소 제거 |
| CLR-B3UP | Resistivity > 17.0㏁∙cm(in 48hr) △TOC < 5 ppb (in 48hr) |
반도체 grade 보론 제거 |
제품
| 제품명 | 제품 구분 | 정보 | TDS |
|---|
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