用途
超纯水
主要特点
用于半导体、OLED、LCD等电气电子产业的超纯水的重要性日益增大，
随着相关产业的不断发展，对超纯水的纯度和可靠性要求变得越发严格。
随着相关产业的不断发展，对超纯水的纯度和可靠性要求变得越发严格。
TRILITE®超纯水用离子交换树脂正在向国内外半导体、显示屏(OLED、LCD)等超纯水设备供货，拥有可靠的Reference，正在凭借稳定的质量管理和按时交货为提高客户公司的竞争力作贡献。
根据需要的超纯水品质，TRILITE®超纯水用离子交换树脂分成URR100、UPR200、UPR300、UPR400系列。
- TRILITE®超纯水用离子交换树脂特点
-
拥有极高水平的均一系数(1.1以下)，在较快流速中也能实现较高的工作交换容量。
为了尽可能地减少离子渗漏(Ion leakage)，H、OH转换率非常高。
对TOC(Total organic carbon)及微量Metal ion leakage进行严格管理。
超纯水生产工艺
产品选择指南
| 产品名称 | Outlet condition | 特点及用途 |
|---|---|---|
| UPRM100U | Guarantee) Resistivity > 17.0㏁∙cm Actual) Resistivity > 18.0㏁∙cm |
一般电气电子纯水制造、 Final polisher |
| UPRM200U | Resistivity > 18.1㏁∙cm(in 30 min) △TOC < 5 ppb (in 120min) |
显示屏纯水制造、 Final polisher |
| UPRM300U | Resistivity > 18.2㏁∙cm(in 30 min) △TOC < 1 ppb (in 180min) |
半导体Grade Final polisher |
| UPRM400U | Resistivity > 18.2㏁∙cm(in 30 min) △TOC < 1 ppb (in 180min) Metal impurity (ppm, as Dry Base) Na<1, Fe<1, Zn<0.5, Al<0.5 |
半导体GradeFinal polisher |
| UPHR1 | Resistivity > 18.2㏁∙cm(in 24hr) △TOC < 1 ppb (in 24hr) |
半导体过氧化氢去除 |
| CLR-B3UP | Resistivity > 17.0㏁∙cm(in 48hr) △TOC < 5 ppb (in 48hr) |
超纯水用硼元(Boron)去除 |
产品
| 产品名称 | 产品分类 | 信息 | TDS |
|---|
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